半导体工业用**纯水设备 集成电路清洗用去离子水设备

电镀去离子水设备工作原理： 
采用离子交换方法，可以把水中呈离子态的阳、阴离子去除，以氯化钠(NaCl)代表水中无机盐类，水质除盐的基本反应可以用下列方程式表达： 
去离子水设备 
1、阳离子交换树脂：R—H+Na+ R—Na+H+ 
2、阴离子交换树脂：R—OH+Cl- R—Cl+OH- 
阳、阴离子交换树脂总的反应式即可写成： 
RH+ROH+NaCl——RNa+RCL+H2O 
由此可看出，水中的NaCl已分别被树脂上的H+和OH-所取代，而反应生成物只有H2O，故达到了去除水中盐的作用。 
新型去离子水设备制备工艺： 
根据应用的行业不同，应用去离子水设备的工艺也不同，我们这里以镀膜玻璃镜片清洗**纯水制取工艺为例： 
1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(较新工艺) 
2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→*二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(较新工艺) 
3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(较新工艺)阳离子交换树脂系统的预处理 
先用清水对树脂进行冲洗，然后用4~5%的HCl和NaOH在交换柱中依次交替浸泡2~4小时，在酸碱之间用大量清水淋洗至出水接近中性，如此重复2~3次，每次酸碱用量为树脂体积的2倍。较后一次处理应用4~5%的HCl溶液进行，放尽酸液，用清水淋洗至中性即可待用。